Reinigen von PVD-Werkzeugen

Plasma Vapor Deposition

Das Aufbringen von Vakuumbedampfungsschichten gewinnt in der modernen Oberflächentechnik zusehends an Bedeutung. Bei der Verdampfung des für den Beschichtungsvorgang nötigen Materials werden jedoch nicht nur die beschichteten Bauteile dem Bedampfungsprozess unterzogen, sondern auch die Werkstückträger (Racks) und die gesamte Innenverkleidung der Plasmakammer. Durch die Beschichtung kommt es zu unerwünschten Effekten:

Toleranzen bei den Werkstückträgern, erhöhte Luftfeuchtigkeit in den Vakuumprozesskammern aufgrund hydroskoper Eigenschaften der Bedampfungsschichten, verlängerte Aufheiz- und Zykluszeiten in Folge von Kontamination in der Prozesskammer.

Vorteile der Clean-Lasertechnik:

  • Effiziente Entschichtung selbst hartnäckiger Bedampfungsschichten möglich
  • Keine mechanische Einwirkung und dadurch keine Beschädigung von Schweißnähten oder Dichtbereichen
  • Deutliche Reduktion der Aufheizzyklen nach der Laserreinigung
  • Typische Reinigung einer Prozesskammer in wenigen Stunden möglich

Mit dem cleanLASER lassen sich selbst hartnäckige Bedampfungsschichten, aber auch DLC (Diamond Like Carbon) Beschichtungen und andere Verschleißschutzschichten wieder entfernen. Durch die Kraft des gebündelten Lichts werden diese "unzerstörbaren" Beschichtungen einfach verdampft. Dadurch kommt es zu einer rückstandsfreien Reinigung der metallischen Trägermaterialien, ohne dass diese makroskopisch beschädigt werden.

Auch die Plasmakammer selbst lässt sich manuell oder teilautomatisch effizient entschichten. Dabei bleibt die Dichtheit des Systems im Gegensatz zum konventionellen Schleifen sicher erhalten.